紫外產(chǎn)品 (< 400nm)
針對使用紫外線波長的 3D 打印和數(shù)字直接曝光進行了優(yōu)化，可獲得高精度、高光功率和高速工業(yè)性能
DLP 3D 打印和直接成像產(chǎn)品采用專門設計的紫外器件，具有精確的像素控制、靈活的數(shù)據(jù)加載和較快的速度，是高速、高精度數(shù)字曝光應用的理想選擇。這些產(chǎn)品支持 400nm 內的各類應用，包括樹脂 SLA 3D 打印應用和數(shù)字曝光應用（例如用于 PCB、先進封裝、FPD 和半導體晶圓的激光直接成像 (LDI)）。此外，提供第三方支持，以便您立即著手進行設計。
設計和開發(fā)資源
設計工具
DLP? 產(chǎn)品第三方搜索工具
為了充分滿足您的設計需求并縮短產(chǎn)品上市時間，DLP? 產(chǎn)品與各種第三方合作，從光學模塊和硬件設計到專用軟件和其他生產(chǎn)服務全方位為您提供幫助。在下方所列兩款搜索工具中擇一下載或兩款全部下載，快速瀏覽我們的第三方供應商，或尋找特定光學模塊來滿足您的需求。列表中產(chǎn)品、軟件和服務的生產(chǎn)者和管理者為獨立的第三方，而非德州儀器 (TI)。
第三方資源可以使用以下兩款搜索工具檢索：
- DLP 產(chǎn)品第三方供應商搜索工具 (DLP-3P-SEARCH) 能夠檢索可以設計或制造光學元件、硬件、軟件和輔助技術的服務供應商
- DLP 產(chǎn)品光學模塊搜索工具 (DLP-OMM-SEARCH) (...)
評估板
DLP7000UV DMD 評估板
此 DLP 評估模塊 (EVM) 包含 DLP7000UV，后者是一個 0.7 UV XGA 2xLVDS Type A DMD，適用于使用 363nm 至 420nm 紫外線 (UV) 光源的應用。
評估板
DLPLCRC410 評估模塊
DLPLCRC410EVM 是一個評估平臺，可與另外五個基于 DMD 的 EVM 配對使用，用以展示光刻、3D 打印（SLS 和 SLA）、機器視覺、打標和編碼等應用的先進光控制。此 EVM 可評估客戶新光源、光學元件、算法和曝光過程，從而加快潛在的 DLP 技術評估過程，縮短客戶學習周期并提高產(chǎn)品上市速度。