ZHCAEP9B July 2015 – November 2024 DLP7000UV , DLP9000XUV , DLP9500UV

1 引言

紫外光譜的 UVA 區(qū)域覆蓋介于 315nm 至 400nm 之間的波長(zhǎng)。UV DMD 專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于在 UVA 區(qū)域的較高部分運(yùn)行。（有關(guān)特定工作波長(zhǎng)限制，請(qǐng)參閱每個(gè)特定的 DMD 數(shù)據(jù)表。）波長(zhǎng)和光子能量之間的關(guān)系由方程式 1 給出。其中：

方程式 1.

h 是普朗克常數(shù)
c 是光速
λ 是光的波長(zhǎng)

圖 1-1 紫外光譜的 UVA 區(qū)域

圖 1-2 UVA 和可見(jiàn)光譜中的光子能量

由于方程式 1 的分子中的兩個(gè)值都是常數(shù)，這表明光子能量?jī)H取決于波長(zhǎng)的倒數(shù)。波長(zhǎng)越小，每個(gè)光子攜帶的能量就越高。因此，UVA 范圍內(nèi)的光（波長(zhǎng)短于可見(jiàn)光區(qū)域的波長(zhǎng)）每個(gè)光子攜帶的能量要多于可見(jiàn)光譜中的光。

除了每個(gè)光子中有更多的能量外，對(duì)于光敏材料而言，較短的波長(zhǎng)光線也支持較小的特征成像，因?yàn)槭苎苌湎拗频墓獍叽笮∨c波長(zhǎng)和 ? 數(shù)成正比。受益于較小光斑大小和每光子更高能量的應(yīng)用示例包括直接成像光刻和各種類(lèi)型的 3D 打印。前者通常使用光敏乳膠（稱(chēng)為光刻膠），后者使用光敏樹(shù)脂。這些光刻膠和樹(shù)脂材料對(duì) UVA 光譜中較高光子能量的反應(yīng)更敏感，可以提高固化速率，而較小的光斑則可以實(shí)現(xiàn)更清晰的細(xì)節(jié)。

用于 UVA 光譜的 UV DMD（例如 DLP7000UV、DLP9500UV 和 DLP9000XUV）采用了卓越的設(shè)計(jì)技術(shù)以及 UV 優(yōu)化型窗口抗反射 (AR) 涂層。這些 DMD 搭配針對(duì)該頻帶中的波長(zhǎng)進(jìn)行優(yōu)化的常用光刻膠和樹(shù)脂以及在該光譜范圍內(nèi)現(xiàn)成可用的發(fā)光二極管 (LED) 和激光二極管，形成了出色的元件組合，便于制造針對(duì) UVA 進(jìn)行優(yōu)化的系統(tǒng)。

TI DLP DMD 使用在兩種物理狀態(tài)之間切換的反射微鏡來(lái)調(diào)制光。由于 DMD 的主要調(diào)制控制通過(guò)無(wú)機(jī)鋁微鏡的反射進(jìn)行，因此與使用有機(jī)分子進(jìn)行調(diào)制控制的空間光調(diào)制器 (SLM) 技術(shù)相比，這些器件對(duì)更短的波長(zhǎng)具有更強(qiáng)的耐受性。有機(jī)分子在暴露于這些較短波長(zhǎng)的光下時(shí)容易降解。^{Ref 1,2}

本應(yīng)用手冊(cè)探討了充分提高使用 DMD 的系統(tǒng)在較短波長(zhǎng) UVA 下的性能的設(shè)計(jì)注意事項(xiàng)。

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